过氧化氢(H2O2)是许多行业在生产工艺中广泛使用的重要化学品。许多应用(例如半导体制造)都需要使用高纯度、低污染的H2O2溶液。有效地测量H2O2溶液中的杂质浓度(特别是有机碳浓度),是确定过H2O2溶液在工艺中的适用性以及H2O2溶液对工艺和产品的影响的关键。
H2O2溶液中的可溶性有机杂质会对半导体工艺和半导体产品造成影响。由于基体产生化学反应,因此分析H2O2溶液中的有机物含量极为困难。此外,H2O2溶液中的有机化合物很稳定,即使在高反应条件下也难以被完全氧化。要想对H2O2溶液进行准确而稳健的总有机碳分析,就需要一种能够有效氧化稳定的有机化合物的仪器和方法。
TOC分析被广泛用来评估在半导体工艺中使用的高纯度化学品的质量。但分析仪器必须对易反应的基体具有化学耐受性,并在低pH值下能够有效氧化有机碳,以获得有效结果。
Sievers InnovOx ES实验室型TOC分析仪采用超临界水氧化(SCWO,Supercritical Water Oxidation)技术,能够有效氧化基体中的难以分析的不稳定有机化合物,从而测量出TOC浓度。我们已经用磷酸、盐酸、硝酸、硫酸等酸剂成功完成了TOC定量测量。
Sievers InnovOx TOC分析仪采用超临界水氧化技术,将有机碳分子氧化为CO2,然后用非色散红外(NDIR,Non-Dispersive Infrared)检测技术进行精确定量。 在超临界水氧化过程中,样品被加热、加压,直到水的临界点以上。在此条件下(375 ?C和220巴),水成为超临界流体,水中的有机物高度可溶,而无机盐不可溶。此条件提高了氧化效率,从而能够测量出反应性基体或复杂基体中的TOC。
我们用30% H2O2溶液中的加标咖啡因的浓度来评估Sievers InnovOx ES实验室型分析仪分析H2O2溶液中TOC的能力。我们分析了加标样品,并将实际TOC结果与预期值进行比较,从而证明了此评估方法的可行性。
我们在两个范围(0-5000 ppm和0-20000 ppm)内进行分析,证明了分析仪在宽广的TOC范围内具有适用性。我们还确定了酸剂(HCl)和氧化剂((NH4)2S2O8)的最佳设置,以得到最准确和最精确的测量结果。
表1中的分析数据包括加标浓度、从加标的30% H2O2样品中测得的TOC、TOC百分比回收率。用实测TOC值除以加标值来计算回收的TOC值。
分析数据显示,分析仪能够对不同浓度的H2O2溶液进行TOC定量测量。为了减少在氧化环境中损失咖啡因,我们在加标后3小时内完成分析。
表1:对30% H2O2
(0-5000 ppm范围)进行TOC分析
咖啡因 加标值 (ppm) | 实测TOC (ppm) | TOC百分比 回收率 (ppm) |
50 | 50 | 100% |
100 | 93 | 93% |
250 | 213 | 85% |
500 | 426 | 85% |
第二项测试评估了在一系列氧化剂设置下的TOC回收率的优化情况。向30% H2O2溶液中加入500 ppm咖啡因,然后在0-20000 ppm范围内进行分析。测量数据如表2所示。用实测TOC值除以加标值来计算回收的TOC值。
表2:对30% H2O2
(0-20000 ppm范围)进行TOC分析
咖啡因 加标值 (ppm) | 实测 TOC (ppm) | RSD % | 回收率 % | 氧化剂 % |
500 | 510 | 7% | 102% | 5 |
500 | 506 | 3% | 101% | 10 |
500 | 482 | 8% | 96% | 15 |
在各种氧化剂设置下,500 ppm TOC的回收率都非常好。相对标准偏差(RSD)表明,分析范围的测量精确度符合标准。用5%到10%范围的氧化剂设置,得出了最佳结果。
Sievers InnovOx ES实验室型分析仪能够准确地、精确地测量30%的浓缩H2O2溶液中的各种TOC浓度。测量的精确度和准确度很高,咖啡因回收率可达500 ppm。在整个测量过程中,分析仪器表现出极佳的稳定性,并且耐受H2O2基体,在规定的维护周期内没有发生降解。
表3是建议的H2O2分析参数。使用对各个TOC浓度范围建议的参数组,就能得到最准确和最精确的测量数据。
表3:对30% H2O2的建议的TOC分析参数
TOC | <100 ppm |
范围 | 0-5000 ppm |
酸剂 | 2-5% 3M HCl或6M H3PO4 |
氧化剂 | 0-1% |
吹除 | 0.8分钟 |
校准点:线性、0、10、50、100 ppm | |
TOC | 100<TOC<5,000 ppm |
范围 | 0-5000 ppm |
酸剂 | 2-5% 3M HCl或6M H3PO4 |
氧化剂 | 5% |
吹除 | 0.8分钟 |
校准点:线性、0、100、1000、5000 | |
TOC | 100<TOC<20,000 ppm |
范围 | 0-20000 ppm |
酸剂 | 2-5% 3M HCl或6M H3PO4 |
氧化剂 | 10% |
吹除 | 0.8分钟 |
校准点:线性、0、100、1000、5000、20000 | |
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