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低总有机碳(TOC)测定的试管准备准则

发布日期:2020-11-06 16:13:07 发布人员: 浏览次数:415

目的 

       建议的美国药典USP23要求,对于纯化水(PW) 和注射用水(WFI),应使用总有机碳含量(TOC) 测定替代当前的易氧化物测试。为支持使用自动进 样器在实验室测量TOC的建议要求,Z小化并去除 来自试管及样品准备过程的背景碳,是非常关键的。 

适用范围 

       本文设计用于协助制药公司遵循水质量的建议规格。 本文检验了几种不同的试管和玻璃器皿清洗方法。 

       在试管中进行总碳分析时,背景污染可有多种不同 的来源。Zda的潜在背景碳含量来源之一,可以直 接来自用于试管漂洗和样品制备的水源。为了进行 此测定,可使用诸如本研究所用的Sievers* 800型 等在线TOC分析仪直接测量水源中的总有机碳 (TOC)含量。如果水源是商品瓶装水,则应从容 器直接取样进行该分析。如果水源为实验室水系统, 充注1升干净的玻璃烧瓶并从该烧瓶取样进行分析。 表1显示了使用这些技术在Sievers分析仪得到的结果。

表1 不同低TOC水及取样方法比较

表1 不同低TOC水及取样方法比较.png

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       当水转移到烧瓶和试管内时很容易被污染,正如以 上所示,Sievers分析仪的水转移到烧瓶中的TOC含 量更高。如果可能的话,检验所选水源类型,以显示其具有稳定的低TOC。 

       污染的第二个主要来源可来自试管和清洗步骤。为了测定TOC背景污染的初始程度,请使用强烈的清 洗步骤。在科学界广泛使用的清洗实验室玻璃器皿的方法是铬酸溶液(Sievers分析仪技术方案914- 80005),已经被从美国药典的实验室玻璃器皿清 洗<1051>章中去除。使用该步骤清洗的试管和其他 玻璃器皿将获得较低的TOC背景污染。在获得较低 的背景污染之后,需要慎重检验更温和的清洗步骤 以获得同样的结果。这里所检验的腐蚀性Z小的化 学清洗步骤是CIP-100洗涤剂。作为清洗剂的替代 方案,可使用马弗炉清洗玻璃器皿。马弗炉工艺需 要的人工更少,但初始设备成本巨大。如表2所示, 硫酸清洗、马弗炉和CIP-100洗涤剂清洗过程与铬 酸清洗过程的结果相当。CIP-100洗涤剂的一个优 点是只需要10次漂洗,而与之相比,其他清洗剂需 要15或20次漂洗。Alconox实验室洗涤剂不建议作为低TOC工作的清洗剂。

       当表 2 中所使用的试管 , 加入足够的苯醇醚 (Octoxynol)(Triton X-100),形成当充满去离 子水时50 ppm(以碳计)的溶液,这时的清洗是有 挑战性的。使这些标准添加溶液在各试管中干燥, 然后进行各种清洗步骤。

       当细菌污染成为问题时,微生物群落存在类似的情 况。在这里开发了无菌化技术,以应对微生物工作 中遇到的交叉污染问题。 此概念可部分适用于碳样品的制备。

例如,适合碳 样品制备的无菌化概念为:

1) 避免直接触摸垫片、移液管、自动取样器针和其 他与样品直接接触的设备, 

2) 制备样品时时避免对着它们呼吸, 

3) 避免采集前几毫升的样品流,采集样品前等待, 直到一些体积经过并净化管道后,并且 

4) 当将试管载入自动取样器时避免接触覆盖试管的隔膜。

       第二种意见是仅使用新试管进行 TOC 分析。这种做 法费钱费力,因为这些新试管需要进行 15 次漂洗 的准备步骤。使用此方法获得的 TOC 值列在表 3 中。

       而另一种方法是购买制造商预清洗的试管。然而此 处列出的试管,供应商没有直接测试其 TOC,而是 测试其挥发性有机化合物。因此,没有保证其Zda TOC 含量。这些预清洗的试管充注 Sievers 低有机 物去离子水,并在仪器上进行分析。结果如图 4 所 示。   

       减小背景碳污染的第三步是遵守严格的制备技术。 特别小心地处理与样品接触的试剂和设备,因为碳 污染无处不在。 

     例如,储存在塑料袋中的垫片,如果手伸入内部时, 可能受到残留的手纹油的污染。表 5 显示了使用故意被手纹直接污染的隔膜时更高的 TOC 含量。右列 显示了在样品制备时上下表面皆有触摸的隔膜。碳污染量是样品制备时与脏手或表面接触程度的反映。

结论 

在样品制备的三个方面叙述了背景碳的潜在原 因。要在低碳背景污染下获得稳定的 TOC 结果, 水、试管和样品制备方法都必须仔细地监控。

表2 试管清洗的不同清洗方案比较

表2 试管清洗的不同清洗方案比较.png

表3 新试管的漂洗与测试

表3 新试管的漂洗与测试.png

表4 预清洁试管充满并测试

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表5 样品制备时无菌相对非无菌化垫片触摸

表5 样品制备时无菌相对非无菌化垫片触摸.png

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